Hva med rengjøringseffekten av halvleder ultralydrengjøringsmaskin?

Vanlige rengjøringsmetoder kan generelt ikke nå hullet, og reaksjonsproduktene og andre miljøgifter i kjernematerialet i hullet vil gi gjentatt forurensning i etterprosessen. Uansett bruk av organisk løsningsmiddel eller rengjøring av flytende rengjøring er det enkelt å introdusere nye forurensningskilder, men bruk av ultralydrengjøringsteknologi kan ikke oppnå gjentatt forurensning, og kan være dypt inne i MCP-hulleffekten. For MCP med forskjellige materialer og blenderåpning, bør ultralydbølge med justerbar frekvens og lydintensitet brukes til eksperiment for å bestemme de faktiske prosessparametrene. For rengjøring av porestørrelse 6-12 μmMCP, når middels væske er vann og etanol, kan ultralydbølge med kavitasjonsterskel ca 1/3 W / cm2, lydintensitet 10 ~ 20 W / cm2 og frekvens 20 ~ 120 kHz brukes til rengjøring. Tabell 1 viser de tilsynelatende og elektriske ytelsestestresultatene til MCP med forskjellige platenumre i samme seksjon etter ultralydrengjøring ved forskjellige frekvenser. Det kan ses fra deteksjonsresultatene at for de små partikkelforurensende stoffer mindre enn 1μm, bør ultralydfrekvens på mer enn 40 kHz brukes til rengjøring.